ASML booste la production de puces grâce à une source EUV améliorée
ASML a développé une version améliorée de la source lumineuse à ultraviolet extrême (EUV) destinée à ses machines de lithographie, une avancée qui pourrait accroître la production de puces jusqu’à 50 % d’ici la fin de la décennie, rapporte Reuters. ASML est la seule entreprise à produire des équipements commerciaux de lithographie EUV, parfois qualifiés de « machine la plus importante au monde », utilisés par des fabricants de puces tels que TSMC et Intel pour la fabrication de circuits avancés.
Selon Michael Purvis, principal expert technologique d’ASML pour les sources lumineuses EUV, le nouveau système peut maintenir une puissance EUV de 1 000 watts dans les mêmes conditions d’exploitation que celles utilisées par les clients. « Ce n’est pas un simple tour de passe-passe », a déclaré Purvis lors d’un entretien avec Reuters sur le site californien d’ASML.
L’augmentation de la puissance de 600 à 1 000 watts permet aux fabricants de réduire les temps d’exposition sur les tranches de silicium, ce qui accroît le nombre de puces produites par heure et réduit les coûts unitaires. Teun van Gogh, vice-président exécutif de la ligne NXE chez ASML, a indiqué à Reuters que les clients pourraient traiter environ 330 tranches par heure sur chaque machine d’ici 2030, contre 220 actuellement. Selon la taille des puces, chaque tranche peut contenir de quelques dizaines à plusieurs milliers de dispositifs individuels.
Les machines EUV d’ASML fonctionnent en projetant une lumière d’une longueur d’onde de 13,5 nanomètres sur des tranches de silicium recouvertes de résine photosensible. Cette lumière est générée par la surchauffe de gouttelettes d’étain transformées en plasma à l’aide de lasers au dioxyde de carbone. Selon Reuters, la nouvelle technique double le nombre de gouttelettes d’étain à environ 100 000 par seconde et les transforme en plasma au moyen de deux impulsions laser au lieu d’une seule.
Les machines EUV sont essentielles à la production de puces avancées. Les gouvernements des États-Unis ont collaboré avec les autorités néerlandaises pour restreindre les exportations des équipements d’ASML vers la Chine, ce qui a incité Pékin à lancer des initiatives visant à développer des alternatives nationales.
