Samsung et ASML vont collaborer sur la fabrication de puces de nouvelle génération
Les deux entreprises souhaitent renforcer leur collaboration dans les domaines de la lithographie EUV High NA et des technologies avancées de fabrication de semi-conducteurs. Samsung prévoit d’introduire la lithographie EUV High NA d’ASML dans la production à grande échelle de DRAM d’ici 2028.
Samsung Electronics et ASML ont annoncé l’élargissement de leur partenariat stratégique de longue date, avec un renforcement de leur collaboration dans les domaines de la lithographie EUV High NA et des technologies avancées de fabrication de semi-conducteurs.
Les deux entreprises travailleront ensemble afin d’accélérer le développement et le déploiement de technologies répondant aux exigences croissantes en matière de performances et d’efficacité dans la fabrication avancée de semi-conducteurs, a indiqué Samsung dans un communiqué de presse.
Samsung rejoindra également une initiative industrielle visant à faire progresser la technologie des photomasques 12 pouces de nouvelle génération destinés aux futurs procédés de fabrication. Avec l’EUV High NA, le passage à des masques plus grands, de 12 pouces, devrait permettre d’accroître davantage la productivité des usines, de réduire les coûts de fabrication des puces et de supprimer les contraintes liées au stitching. Les fabricants de semi-conducteurs avancés pourront ainsi exploiter pleinement les avantages de l’EUV High NA et rendre plus rentable la production des futures générations de puces de pointe.
Samsung prévoit par ailleurs d’introduire la lithographie dans l’extrême ultraviolet (EUV) High NA d’ASML dans sa future production à grande échelle de DRAM d’ici 2028, précise le communiqué.
« Samsung s’engage à maintenir sa position de leader dans la fabrication avancée de semi-conducteurs, notamment dans les mémoires et la fonderie, grâce à des technologies de rupture et à des partenariats solides », a déclaré Young Hyun Jun, vice-président et CEO de Samsung Electronics. « En renforçant encore notre collaboration avec ASML, nous contribuons à poser les bases de la prochaine génération d’innovations dans l’IA et les semi-conducteurs. »
« Samsung est depuis de nombreuses années l’un des principaux partenaires d’ASML en matière d’innovation. Ensemble, nous avons contribué à faire progresser les technologies qui sous-tendent la fabrication moderne de semi-conducteurs », a déclaré Christophe Fouquet, président et CEO d’ASML. « Alors que l’industrie entre dans une nouvelle ère portée par l’intelligence artificielle, une collaboration étroite avec nos clients devient encore plus importante. »
