xLight lève 40 millions de dollars pour révolutionner la fabrication des semi-conducteurs

Avec cette nouvelle injection de capital, xLight vise à concevoir et prototyper la source de lumière la plus puissante jamais destinée à l’industrie des semi-conducteurs. Le but est de répondre aux défis majeurs du secteur : réduire les coûts, accroître les capacités techniques et augmenter la capacité de production. Les lasers EUV développés par xLight promettent non seulement une efficacité énergétique supérieure, mais aussi une amélioration de performance d’un facteur dix par rapport aux technologies actuelles, une révolution pour la gravure de circuits intégrés toujours plus fins et complexes.

Un catalyseur pour la prochaine ère de la loi de Moore

La technologie EUV FEL de xLight est perçue comme un levier pour redynamiser la fameuse loi de Moore, en permettant la miniaturisation continue des puces tout en augmentant la productivité des usines de fabrication (fabs). 

Dans un contexte de demande explosive générée par l’essor de l’intelligence artificielle et des appareils connectés, cette innovation s’annonce cruciale pour la souveraineté industrielle et la sécurité nationale américaines.

Un écosystème de partenaires scientifiques et industriels de premier plan

Le développement des lasers de xLight bénéficie d’un solide réseau de collaborations, notamment avec le Cornell Laboratory for Accelerator-based ScienceS and Education (CLASSE), le Los Alamos National Laboratory (LANL) et le Fermi National Accelerator Laboratory. Ces partenariats permettent à la société de s’appuyer sur une expertise de pointe en physique des accélérateurs et en ingénierie des cavités radiofréquence supraconductrices, éléments clés pour la conception de sources EUV avancées. 

Par ailleurs, xLight entretient des liens avec ASML, leader mondial du matériel de lithographie, pour faciliter la future intégration industrielle.

Intelligence artificielle et automatisation : vers l’usine du futur

L’un des axes majeurs de la feuille de route technique de xLight est l’application de techniques avancées d’intelligence artificielle, issues du partenariat avec le LANL, afin d’automatiser le pilotage des accélérateurs à grande échelle. Cette approche vise à optimiser le fonctionnement des systèmes EUV, réduire les erreurs humaines et accélérer la montée en puissance des lignes de production de puces électroniques.

En réunissant capital, expertise scientifique et alliance industrielle, xLight se positionne comme un acteur central du futur de la microélectronique. Son ambition : rendre accessible une nouvelle génération de sources lumineuses, catalyser l’émergence de dispositifs électroniques inédits et contribuer à la réindustrialisation stratégique du secteur des semi-conducteurs aux États-Unis.